Растровый микроскоп РЭМ-106
Оплата
- Безналичный расчет
- Предоплата на банковкую карту
- Оплата с отсрочкой платежа
Доставка
- Деловые Линии;
- ПЭК;
- ЖелДорЭкспедиция;
- КИТ;
- Энергия;
Растровый микроскоп РЭМ-106 предназначен для исследований в материаловедении, нанотехнологиях, физике, химии, геологии, микроэлектронике, биологии, медицине и др. областях с гарантированными метрологическими параметрами измерений линейных размеров субмикронного диапазона и массовой доли элементов в составе исследуемых объектов.
Конструктивные особенности
- быстрое, с гарантированной точностью, измерение линейных размеров объектов;
- определение элементного состава объектов методом рентгеновского микроанализа с гарантированной точностью;
- высокое качество электронно-оптических изображений поверхности проводящих и диэлектрических объектов без специального приготовления в режимах вторичных (ВЭ) и отраженных электронов (ОЭ);
- набор тестовых образцов для калибровки и поверки метрологических параметров, электронно-оптического увеличения, разрешающей способности в режиме ВЭ и ОЭ, калибровки и поверки системы микроанализа; набор эталонов для количественного микроанализа;
- конструкция вакуумной системы, обеспечивающая два рабочих режима в камере объектов: высоковакуумный (классический РЭМ) и низковакуумный регулируемый – для исследования диэлектрических объектов;
- электронно-оптическая система с повышенной защищенностью от внешних электромагнитных полей;
- высокая виброустойчивость;
- объективная линза с разделительными диафрагмами для дифференциальной откачки камеры объектов и электронной пушки;
- управление вакуумной, электронно-оптической, энерго-дисперсионной системами прибора и механизмом перемещения объектов, а также визуализацию и хранение изображений и результатов микроанализа обеспечивается персональным компьютером;
- документирование изображений и спектров высокоразрешающим принтером;
- отображение информации о состоянии прибора на дисплее компьютера.
|
Разрешение в режиме высокого вакуума (ВЭ), нм |
4 |
|
Разрешение в режиме низкого вакуума (ОЭ), нм |
6 |
|
Максимальный размер изображения, пикс |
1280 960 |
|
Диапазон регулирования давления в камере, Па |
1 - 270 |
|
Диапазон ускоряющих напряжений, кВ |
0,5 - 30 |
|
Диапазон регулирования увеличений, х |
15 - 300000 |
|
Максимальный размер объекта, мм |
50 |
|
Диапазон перемещений объекта: |
|
|
по координатам X, Y, мм |
±25 |
|
по координате Z, мм |
50 |
|
наклон,° |
-20 до 60 |
|
поворот, ° |
360 |
|
Время смены образца, мин |
5 |
|
Диапазон измерений линейных размеров, µm |
0,2 - 5000 |
|
Пределы допускаемой основной погрешности измерений линейных размеров, не более: |
|
|
в диапазоне от 0,2 µm до 0,8 µm, нм |
±40 |
|
в диапазоне свыше 0,8 µm до 5000 µm, % |
±4 |
|
Диапазон анализируемых элементов: |
|
|
в режиме высокого вакуума |
5B - 92U |
|
в режиме низкого вакуума |
12Mg - 92U |
|
Разрешение ЭДС, eV |
139 |
|
Пределы допускаемой относительной погрешности измерений массовой доли элемента в диапазоне от 6С до 92U |
|
|
в составе массивных образцов, не более: |
|
|
для элементов с диапазоном массовой доли свыше 10 %, % |
±4 |
|
для элементов с диапазоном массовой доли свыше 1 % до 10 %, % |
±20 |
|
для элементов с диапазоном массовой доли от 0,1 % до 1 %, % |
±50 |
|
Напряжение питания (1 фаза), В |
220 |
|
частота, ГЦ |
50/60 |
|
Потребляемая мощность, кВА |
2,5 |
|
Габаритные размеры (колонна со стендом), мм |
1050х2100х1850 |
|
Масса, кг |
685 |